佳能推晶圆测量机新品MS-001比光刻机精度更高半导体制造工艺日趋复杂，为了制造出高精度的半导体元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要测量的对准测量点也越来越多。如果在半导体光刻机中对数量众多的测量点进行对准测量的话，测量本身会非常耗时，...
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2025-07-08
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